在半导体精密制造中，光刻工艺无疑是决定工艺精度的关键，直接影响半导体器件的最终性能。随着半导体器件的不断微缩和新技术的应用，光刻工艺不断挑战物理极限，对微污染物更是零容忍。在此背景下，作为过滤技术领域的创新者，科百特持续研发攻坚，深耕光刻工艺的高精密过滤，致力于为客户提供极致的产品。继 1nm PE滤芯取得优秀成绩之后，科百特已推出的Sub 1nm PE 产品也在客户应用中获得了优异的性能反馈。
科百特自主研发的PE滤膜采用拉伸工艺制造，通过精准控制拉伸过程，使高结晶度的滤膜得以完美成型。凭借创新的技术工艺，Sub 1nm PE滤膜在制造过程中进一步缩小了膜孔尺寸，并优化孔径分布，从而显著提升了Sub 1nm PE滤膜的截留能力。实验数据显示，在苛刻的过滤条件下，Sub 1nm PE 对 2nm金颗粒的过滤效率比 1nm PE滤膜高出约20%。
从 1nm PE 和 Sub 1nm PE 滤膜的电镜图中可以发现, Sub 1nm PE 滤膜的孔径更小，且孔更致密地分布在膜表面。
Sub 1nm PE 滤芯不仅在颗粒截留性能上得到了提升,还在洁净度方面进行了优化。对于高精度过滤器，需要严格管控金属离子、有机物、颗粒溶出等多项指标。科百特通过先进的洁净管控技术，严格管控微污染物，确保滤芯的高洁净，可以有效减少客户上机的冲洗时间。
洁净管控技术和制膜工艺的提升，使得科百特的高精度过滤器能够显著提高客户产品的良率。目前 Sub 1nm PE 过滤器已在国内外多家客户端得到了验证，并取得了优秀的结果。
科百特高洁净度 Sub 1nm PE在客户端测试结果
